真空電鍍設備是指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延等很多種，不過比較常見是蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是通過加熱靶材使靶材表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，使其沉降在基片表面，通過進一步的成膜過程形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，我們可以理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且使其沉積在基片表面，經歷進一步成膜過程，最終形成薄膜。兩種方式需要在較高真空環境下進行，故叫真空鍍膜技術。真空電鍍相比傳統水電鍍，發展潛力好，對環境污染小，成本較低，做出來的產品金屬感強，亮度高，為各行業廣泛采用。
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