目前市場上磁控濺射鍍膜設備的濺射方式有很多種，比如說在使用中常見的二級濺射、三級濺射、四級濺射，以及磁控濺射，對向靶濺射......等多種。
那么這些濺射方式有什么區別呢？下面我們來簡單的介紹幾種濺射方式，以增加大家對磁控濺射鍍膜設備的認識。
二級濺射：磁控二級濺射的結構是由一對陰極和陽級所主城的冷陰級輝光放電管結構。接通電源時，其陰極靶上的負高壓在兩極之間產生輝光放電并且建立等離子區域，其中帶正電的的離子在陰極作用下，加速轟擊陰極靶，使其物質表面濺射，最后以分子或者原子狀態下沉積基片表面，形成靶材鍍膜。
CCZK-EL電阻蒸發真空鍍膜機（真空電鍍機系列）
三級濺射和四級濺射和二級濺射差不多，其主要區別是增加了一個電極，并且能夠在主閥全開的狀態下制取高純度膜使其光熱電子強化放電，既能夠讓濺射速率提高，而且還能夠讓濺射工況控制更加方便。
射頻濺射：這是一種60年代使用的射頻輝光放電，能夠從制取從導體到絕緣體的任意材料薄膜，在70年代得到普及。
磁控濺射：磁控濺射是70年代發展的一種新型濺射技術，在目前工業中被廣泛的使用，其具有高速、低溫、低損傷的優點。缺點是靶材利用率不高，基本上低于40%。
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以上就是磁控濺射鍍膜設備的一些鍍膜方式。
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